第1章緒論(1)

1.1焦平面成像探測(cè)(1)

1.2控制成像探測(cè)的光波參量(8)

第2章電控液晶微透鏡陣列(12)

2.1引言(12)

2.2液晶的基本物性(12)

2.2.1液晶類型(12)

2.2.2序參數(shù)(14)

2.2.3介電各向異性(14)

2.2.4液晶雙折射(15)

2.2.5黏滯系數(shù)(16)

2.2.6彈性連續(xù)體理論(16)

2.2.7邊界效應(yīng)(18)

2.3功能化液晶的指向矢計(jì)算(19)

2.3.1迭代方程組數(shù)值化(24)

2.3.2邊界條件(24)

2.3.3程序流程圖(25)

2.3.4仿真架構(gòu)(26)

2.4電控液晶微光學(xué)結(jié)構(gòu)(44)

2.5電控液晶透鏡與微透鏡(50)

2.5.1研究進(jìn)展情況(50)

2.5.2典型屬性與特征(58)

2.6小結(jié)(62)

第3章液晶基波前成像探測(cè)(64)

3.1引言(64)

3.2局域子波前測(cè)量與目標(biāo)波前還原(64)

3.2.1SH波前測(cè)量法(65)

3.2.2液晶基波前成像測(cè)量法(66)

3.3用于波前測(cè)量的面陣電控液晶微透鏡(67)

3.4譜圖像的分解與融合(70)

3.5液晶基波前成像(82)

3.6小結(jié)(84)

第4章基于波前成像的景深擴(kuò)展(85)

4.1引言(85)

4.2波前成像中的圖像模糊問(wèn)題(85)

4.3液晶基波前成像景深特征(88)

4.4基于電控液晶微透鏡擴(kuò)展波前成像景深(92)

4.5小結(jié)(112)

第5章基于波前成像的物空間深度測(cè)量(113)

5.1引言(113)

5.2波前成像物空間深度不敏感性(113)

5.3基于液晶基波前成像的物空間深度測(cè)量(118)

5.3.1液晶基波前光學(xué)成像探測(cè)系統(tǒng)測(cè)量物空間深度(118)

5.3.2基于Sobel梯度算子評(píng)估圖像清晰度(120)

5.4物空間深度標(biāo)定與評(píng)估(121)

5.4.1物空間深度標(biāo)定(121)

5.4.2物空間深度測(cè)量評(píng)估(132)

5.5小結(jié)(133)

第6章液晶基光場(chǎng)成像探測(cè)(134)

6.1引言(134)

6.2常規(guī)三維成像(134)

6.3光場(chǎng)成像(136)

6.4用于光場(chǎng)成像的電控液晶微透鏡陣列(143)

6.4.1單元液晶微透鏡(146)

6.4.2加載不同信號(hào)均方根電壓的液晶微透鏡(148)

6.4.3液晶厚度不同的微透鏡(149)

6.4.4關(guān)鍵性工藝步驟(151)

6.5液晶基電控景深光場(chǎng)成像(153)

6.5.1電控光場(chǎng)成像建模(154)

6.5.2圖像的光場(chǎng)表征(156)

6.5.3電控光場(chǎng)成像的光學(xué)結(jié)構(gòu)配置(159)

6.5.4電控光場(chǎng)成像景深特征(164)

6.6液晶基光場(chǎng)相機(jī)(166)

6.7光場(chǎng)圖像的加工處理與渲染(170)

6.8小結(jié)(174)

第7章基于電控光場(chǎng)成像的運(yùn)動(dòng)參數(shù)測(cè)量(175)

7.1引言(175)

7.2電控光場(chǎng)成像的三維投影模型(175)

7.3虛物點(diǎn)深度估算與深度分辨率(181)

7.4液晶基光場(chǎng)相機(jī)的標(biāo)定特征(183)

7.5運(yùn)動(dòng)參數(shù)測(cè)量與評(píng)估(187)

7.5.1運(yùn)動(dòng)參數(shù)計(jì)算(187)

7.5.2運(yùn)動(dòng)參數(shù)的實(shí)驗(yàn)測(cè)量(190)

7.6小結(jié)(191)

第8章液晶基光場(chǎng)與平面一體化成像(192)

8.1引言(192)

8.2雙模一體化成像系統(tǒng)設(shè)計(jì)(192)

8.3雙模一體化相機(jī)(196)

8.4高分辨率三維圖像重建(201)

8.4.1六種度量值計(jì)算方法(202)

8.4.2清晰度評(píng)價(jià)函數(shù)(204)

8.5液晶基光場(chǎng)相機(jī)原型(206)

8.5.1近景成像用液晶基光場(chǎng)相機(jī)(206)

8.5.2遠(yuǎn)景成像用液晶基光場(chǎng)相機(jī)(208)

8.6毫秒/亞毫秒數(shù)量級(jí)的圖像渲染耗時(shí)(214)

8.7物空間的液晶基可尋址加電層析成像(215)

8.8小結(jié)(219)

第9章紅外光場(chǎng)成像的石墨烯基電控液晶微透鏡陣列(220)

9.1引言(220)

9.2石墨烯電極的轉(zhuǎn)移制備(220)

9.2.1機(jī)械剝離法(221)

9.2.2外延生長(zhǎng)法(221)

9.2.3化學(xué)氣相沉積法(221)

9.2.4氧化還原法(222)

9.3基于石墨烯電極的紅外液晶微透鏡陣列(224)

9.4液晶的單晶石墨烯誘導(dǎo)定向(229)

9.4.1單晶石墨烯誘導(dǎo)的液晶初始定向特征(229)

9.4.2單晶石墨烯的液晶定向特征(235)

9.4.3單晶石墨烯基電控液晶微透鏡陣列(239)

9.5小結(jié)(252)

第10章液晶基偏振成像探測(cè)(253)

10.1引言(253)

10.2偏振成像基本特征(253)

10.2.1光學(xué)旋轉(zhuǎn)器(255)

10.2.2相位延遲器(255)

10.3偏振光場(chǎng)成像(259)

10.4偏振光場(chǎng)成像用電控液晶微透鏡陣列(270)

10.4.1基片與電極(271)

10.4.2石墨烯轉(zhuǎn)移(271)

10.4.3涂布光刻膠與曝光(271)

10.4.4蝕刻(271)

10.4.5液晶器件化(271)

10.4.6測(cè)試與評(píng)估(272)

10.5層疊耦合正交偏振液晶微透鏡(273)

10.6偏振與偏振不敏感光場(chǎng)成像(284)

10.7小結(jié)(288)

第11章基于扭曲向列相液晶的偏振光場(chǎng)成像(289)

11.1引言(289)

11.2扭曲向列相電控液晶微透鏡(290)

11.2.1扭曲向列相液晶微透鏡的典型控光過(guò)程(290)

11.2.2扭曲向列相液晶微透鏡的典型工作模式(291)

11.3偏振差分去霧成像(294)

11.4偏振光場(chǎng)與平面成像一體化去霧(297)

11.5小結(jié)(308)

第12章石墨烯基電控液晶微透鏡與偏振光場(chǎng)成像(309)

12.1引言(309)

12.2單晶石墨烯制備與表征(310)

12.2.1單晶Cu(111)晶膜制備(312)

12.2.2單晶石墨烯制備(313)

12.2.3單晶石墨烯表征(313)

12.3液晶石墨烯定向(315)

12.4石墨烯基電控液晶微透鏡陣列(318)

12.5偏振光場(chǎng)成像景深特征(322)

12.6紅外液晶微透鏡(330)

12.7小結(jié)(339)

參考文獻(xiàn)(340)