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專利挖掘（第2版） 
定 價：76 元
9 7 0 8 6 7 9 5 6 1 0 3 1 讀者對象:（1）企業(yè)知識產(chǎn)權(quán)主管、研發(fā)主管，企業(yè)專利管理人員，企業(yè)研發(fā)人員；（2）知識產(chǎn)權(quán)代理機(jī)構(gòu)專利代理師、專利咨詢師、專利管理師、專利工程師；（3）專利律師；（4）各級政府專利管理部門相關(guān)人員、專利分析課題研究人員；（5）相關(guān)專業(yè)的大學(xué)生等。
本書系統(tǒng)梳理了專利挖掘的理論和常用工具，首次通過專利挖掘的主要場景（如基于研發(fā)目的和創(chuàng)新點的專利挖掘、應(yīng)對競爭對手核心專利的專利挖掘、規(guī)避設(shè)計的專利挖掘等）對專利挖掘進(jìn)行逐一闡述。此外，還分別從主要技術(shù)領(lǐng)域介紹了專利挖掘的手段，并通過典型案例講解、分析了專利挖掘的具體過程。讀者對象：企業(yè)研發(fā)人員、專利工程師、專利代理師和專利咨詢師、相關(guān)專業(yè)師生。
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