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專利挖掘(第2版)

專利挖掘(第2版)

定  價:76 元

        

  • 作者:馬天旗
  • 出版時間:2020/8/1
  • ISBN:9787513069601
  • 出 版 社:知識產(chǎn)權出版社
  • 中圖法分類:G306 
  • 頁碼:324
  • 紙張:膠版紙
  • 版次:2
  • 開本:16K
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讀者對象:(1)企業(yè)知識產(chǎn)權主管、研發(fā)主管,企業(yè)專利管理人員,企業(yè)研發(fā)人員;(2)知識產(chǎn)權代理機構專利代理師、專利咨詢師、專利管理師、專利工程師;(3)專利律師;(4)各級政府專利管理部門相關人員、專利分析課題研究人員;(5)相關專業(yè)的大學生等。

本書系統(tǒng)梳理了專利挖掘的理論和常用工具,首次通過專利挖掘的主要場景(如基于研發(fā)目的和創(chuàng)新點的專利挖掘、應對競爭對手核心專利的專利挖掘、規(guī)避設計的專利挖掘等)對專利挖掘進行逐一闡述。此外,還分別從主要技術領域介紹了專利挖掘的手段,并通過典型案例講解、分析了專利挖掘的具體過程。讀者對象:企業(yè)研發(fā)人員、專利工程師、專利代理師和專利咨詢師、相關專業(yè)師生。
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