電子科學(xué)與技術(shù)專(zhuān)業(yè)英語(yǔ) 光電信息技術(shù)分冊(cè)(修訂版)
定 價(jià):22 元
- 作者:陳偉平,田麗
- 出版時(shí)間:2007/9/1
- ISBN:9787560318332
- 出 版 社:哈爾濱工業(yè)大學(xué)出版社
- 中圖法分類(lèi):H31
- 頁(yè)碼:
- 紙張:膠版紙
- 版次:
- 開(kāi)本:16開(kāi)
本書(shū)由半導(dǎo)體物理、半導(dǎo)體器件、半導(dǎo)體與集成電路工藝、集成電路設(shè) 計(jì)、微電子機(jī)械系統(tǒng)和科技文獻(xiàn)范例六部分組成。全書(shū)涵蓋了微電子技術(shù)領(lǐng) 域的基本內(nèi)容,同時(shí)又介紹了該領(lǐng)域的一些較新的發(fā)展。
本書(shū)可作為電子科學(xué)與技術(shù)專(zhuān)業(yè)微電子技術(shù)方向的三、四年級(jí)本科生的 專(zhuān)業(yè)英語(yǔ)教材,也可供相關(guān)專(zhuān)業(yè)的本科生和從事該專(zhuān)業(yè)領(lǐng)域的工程技術(shù)人員 使用。
Chapter 1 Semiconductors Physics
1.1 Energy Bands and Carrier Concentration
1.2 Carrier Transport Phenomena
1.3 PN Junction
1.4 Summary
參考文獻(xiàn)
Chapter 2 Semiconductor Device
2.1 Bipolar Junction Transistor
2.2 The MOSFET
2.3 Microwave and Photonic Devices
2.4 Stamary
參考文獻(xiàn)
Chapter 3 Processing Technology
3.1 Crystal Growth and Epitaxy
3.2 Crystal Growth from the Melt
3.3 Vapor-Phase Epitaxy
3.4 Oxidation and Film Deposition
3.5 Diffusion and Ion Implantation
3.6 Lithographies
3.7 Wet Chemical Etching
3.8 Dry Etching
3.9 Integrated Devices
3.10 Fundamental Limits of Integrated Devices
參考文獻(xiàn)
Chapter 4 Integrated Circuits
4.1 Introduction
4.2 Design Analysis and Simulation
4.3 Vedficafion
4.4 Summary
參考文獻(xiàn)
Chapter 5 Microelectromechanical Systems(MEM)
5.1 Introduction
5.2 MEMS
5.3 Mechanical Characteristics of Silicon
5.4 Microfabrications for MEMS
5.5 Micmsensing for MEMS
5.6 Electromechanical Actuation
5.7 Materials for MEMS
參考文獻(xiàn)
Chapter 6 Examples of Scientific and Technological Papers
6.1 The Challenges for Physical Limitations in si Microelectronics
6.2 Micmelectronics and Photonicsthe Future
6.3 Accelerated Verification of Digital Devices Using VHDL
6.4 What Is Nanotechnology
參考文獻(xiàn)