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本書是現(xiàn)代X射線光譜分析綜合性參考書。全書共分十七章，系統(tǒng)介紹X射線的物理基礎(chǔ)，基本性質(zhì)，激發(fā)，色散，探測(cè)與測(cè)量，波長(zhǎng)色散與能量色散光譜儀，基體效應(yīng)，光譜背景和譜線重疊，樣品制備，定性與半定量分析，實(shí)驗(yàn)校正法，數(shù)學(xué)校正法定量分析，薄膜和鍍層厚度分析，應(yīng)用實(shí)例及分析誤差與不確定度等內(nèi)容。附錄列舉了X射線熒光光譜分析常用的物理常數(shù)，相關(guān)數(shù)據(jù)等，供讀者參考使用。本書適用于冶金，地質(zhì)，礦山，建材，檢驗(yàn)檢疫，石油，化工，環(huán)境，農(nóng)業(yè)，生物，食品，醫(yī)藥，文物及考古等部門從事X射線光譜分析的專業(yè)人員及相關(guān)工程技術(shù)人員參考，同時(shí)適用于高等院校相關(guān)專業(yè)師生，研究生及科研院所工程技術(shù)人員參考。

X射線光譜分析技術(shù)是一種廣泛應(yīng)用于冶金，地質(zhì)，檢驗(yàn)檢疫，工程材料，石油化工，電子與電氣，環(huán)境科學(xué)，農(nóng)業(yè)與食品，生物與醫(yī)學(xué)，考古與文物鑒定等領(lǐng)域新材料，新工藝研究，新技術(shù)開發(fā)，環(huán)境監(jiān)測(cè)及產(chǎn)品質(zhì)量控制不可或缺的分析工具。追溯X射線光譜分析技術(shù)的發(fā)展歷史，自1948年出現(xiàn)第一臺(tái)波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜商品儀器至今，基礎(chǔ)理論，波長(zhǎng)色散與能量色散光譜分析技術(shù)，儀器技術(shù)，應(yīng)用與軟件，經(jīng)歷了飛躍式發(fā)展，取得了長(zhǎng)足的進(jìn)步。X射線光譜分析技術(shù)，作為表征物質(zhì)化學(xué)組成及其性能的一種重要手段，經(jīng)歷了六十多年的進(jìn)步與發(fā)展。在我國，從開始引進(jìn)到步入應(yīng)用,從實(shí)驗(yàn)室的探索性研究到普及應(yīng)用于研究和生產(chǎn)的質(zhì)量控制，經(jīng)過幾代人的不懈努力，特別是改革開放以來，經(jīng)歷了多次飛躍，獲得了突飛猛進(jìn)的發(fā)展。 20世紀(jì)60年代末至80年代初，我國著名學(xué)者及相關(guān)工程技術(shù)人員已開始關(guān)注X射線光譜分析儀器的國產(chǎn)化，并付諸實(shí)踐。在當(dāng)時(shí)十分艱難的條件下，先后研制成功順序式X射線光譜儀，多道全聚焦X射線光譜儀及各類便攜式能量色散X射線光譜儀，并獲得了國家科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)，科學(xué)大會(huì)獎(jiǎng)及部級(jí)獎(jiǎng)等獎(jiǎng)項(xiàng)，取得了可喜的成果，為以后X射線光譜儀器的國產(chǎn)化及相關(guān)技術(shù)的發(fā)展奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)，為我國科學(xué)技術(shù)進(jìn)步與工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)代化做出了重要貢獻(xiàn)。20世紀(jì)70年代初，我國X射線光譜分析技術(shù)處于引進(jìn)消化的起步階段，在文獻(xiàn)資料，技術(shù)借鑒匱乏的條件下，為促進(jìn)技術(shù)隊(duì)伍的成長(zhǎng)和技術(shù)進(jìn)步，筆者于1973年初翻譯了美國學(xué)者Birks著的《X射線光譜化學(xué)分析》，這對(duì)剛剛步入該專業(yè)技術(shù)領(lǐng)域的工程技術(shù)人員，起了拋磚引玉的作用。20世紀(jì)80年代初正值我國X射線光譜分析技術(shù)開始騰飛需要助力之際，筆者翻譯了美國學(xué)者Bertin著的《X射線光譜分析導(dǎo)論》一書，以助微薄之力。當(dāng)今，我國X射線光譜分析專業(yè)隊(duì)伍已十分龐大，技術(shù)水平蒸蒸日上，突飛猛進(jìn)之際，為告慰60年來幾代人的共同奮斗，筆者特此組織編著了《實(shí)用X射線光譜分析》一書，供大家參考。本書共分十七章，分別對(duì)X射線的物理基礎(chǔ)，基本性質(zhì)，激發(fā)，色散，探測(cè)與測(cè)量, 波長(zhǎng)色散與能量色散光譜儀, 基體效應(yīng)，光譜背景和譜線重疊, 樣品制備, 定性與半定量分析, 實(shí)驗(yàn)校正法，數(shù)學(xué)校正法定量分析, 薄膜和鍍層厚度分析，應(yīng)用實(shí)例及分析誤差與不確定度等內(nèi)容做了系統(tǒng)介紹。附錄列舉了X射線光譜分析常用的物理常數(shù)，數(shù)據(jù)等參考資料。本書適用于冶金，地質(zhì)，礦產(chǎn)，檢驗(yàn)檢疫，工程材料，石油化工，建筑材料，環(huán)境科學(xué)，生物醫(yī)學(xué)，文物鑒定，農(nóng)業(yè)與食品，電子與電氣等領(lǐng)域從事X射線光譜分析的專業(yè)技術(shù)人員，高等院校相關(guān)專業(yè)師生及科研院所專業(yè)技術(shù)人員和相關(guān)工程技術(shù)人員參考使用。本書由高新華（教授），宋武元（研究員），鄧賽文（研究員），胡堅(jiān)（高級(jí)工程師）編著，其中第16章，第17章由宋武元研究員撰稿,第14章由胡堅(jiān)高級(jí)工程師編撰,第15章由鄧賽文研究員編撰,其余各章由高新華教授執(zhí)筆。本書全文由高新華教授和宋武元研究員共同整理和修改，由梁國立研究員和王毅民研究員審定。由于作者水平有限，書中不妥之處在所難免，望讀者批評(píng)指正。書中的文字，數(shù)據(jù)，圖表，附錄及參考文獻(xiàn)等的錄入等工作由高毓和楊婕完成。衷心感謝所有參與本書編著出版付出辛勤勞動(dòng)的工作人員！衷心感謝廣東出入境檢驗(yàn)檢疫局技術(shù)中心對(duì)本書的編著與出版予以的幫助和支持！高新華2016年6月10日

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