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制冷紅外焦平面探測(cè)器技術(shù)

制冷紅外焦平面探測(cè)器技術(shù)

定  價(jià):89 元

        

  • 作者:黃立
  • 出版時(shí)間:2023/3/1
  • ISBN:9787121453236
  • 出 版 社:電子工業(yè)出版社
  • 中圖法分類:TN215 
  • 頁(yè)碼:196
  • 紙張:
  • 版次:01
  • 開本:16開
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讀者對(duì)象:本書可作為紅外探測(cè)和探測(cè)器制造工作者、電子信息工程專業(yè)本科生或研究生及相關(guān)專業(yè)人員的教材或參考書目,也可作為企業(yè)生產(chǎn)管理人員及相關(guān)技術(shù)人員的參考用書。

本書內(nèi)容主要基于紅外焦平面陣列探測(cè)器領(lǐng)域取得的成果,并系統(tǒng)介紹了紅外焦平面陣列探測(cè)器的設(shè)計(jì)理論及制造過程。本書分別介紹了非制冷型和制冷型兩大類紅外焦平面陣列探測(cè)器,主要具體內(nèi)容為:碲鎘汞和超晶格等熱敏材料制備;金屬、陶瓷、晶圓和像素級(jí)四類封裝工藝;線性、旋轉(zhuǎn)式等多種斯科特式制冷技術(shù)與器件;涉及各類核心器件性能的高精度檢測(cè)技術(shù);紅外焦平面陣列探測(cè)器全生命生產(chǎn)周期管理;各類紅外焦平面陣列探測(cè)器應(yīng)用技術(shù)。
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