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版權(quán)信息
前言
第一章 緒論
第一節(jié) 核物理基礎(chǔ)
一、放射性
二、γ射線與物質(zhì)的相互作用
第二節(jié) 密度測井
一、密度測井原理
二、隨鉆方位密度測井原理
第三節(jié) 隨鉆密度測井的發(fā)展
一、密度測井儀研究進展
二、方位密度應用研究進展
第二章 隨鉆方位密度測井蒙特卡羅模擬
第一節(jié) 蒙特卡羅方法簡介
第二節(jié) 儀器模型構(gòu)建
一、模型描述
二、模型構(gòu)建
第三節(jié) 能窗劃分方法
一、劃分依據(jù)
二、不同泥漿條件下探測器能窗劃分
三、儀器能窗的確定
第四節(jié) 儀器探測特性研究
一、不同井斜角下幾何因子
二、探測特性分析
第三章 譜數(shù)據(jù)處理及刻度方法
第一節(jié) 譜數(shù)據(jù)處理軟件
第二節(jié) 譜數(shù)據(jù)處理方法
一、譜數(shù)據(jù)平滑、濾波
二、譜數(shù)據(jù)尋峰
三、譜數(shù)據(jù)能量刻度
四、本底扣除及死時間校正
第三節(jié) 刻度方法研究
一、一級刻度
二、二級刻度
三、密度和巖性指數(shù)Pe計算
第四節(jié) 譜數(shù)據(jù)處理方法驗證
第四章 隨鉆方位密度影響因素分析及校正
第一節(jié) 方位密度敏感性分析
一、方位密度敏感性模擬
二、密度值差下方位密度敏感性分析
第二節(jié) 井眼因素影響及校正
一、井徑和間隙影響因素的模擬
二、井徑和間隙校正
第三節(jié) 不同井斜角下層厚的影響及校正
一、不同井斜角下層厚影響因素的模擬
二、不同井斜角下層厚影響的校正
第五章 隨鉆方位密度成像測井應用研究
第一節(jié) 方位密度成像方法
一、數(shù)據(jù)預處理
二、圖像色度標定
三、圖像生成與顯示
四、圖像插值技術(shù)
五、圖像處理方法
六、密度圖像實例
第二節(jié) 方位密度圖像的應用
一、識別地層界面
二、求取地層傾角
三、實時地質(zhì)導向
第六章 隨鉆脈沖中子源密度測井技術(shù)發(fā)展
第一節(jié) 脈沖中子源密度測井基礎(chǔ)
第二節(jié) 脈沖中子源密度測井原理
第三節(jié) D-D中子源密度測量研究
參考文獻