第一章 國內(nèi)外石墨烯技術(shù)的研究現(xiàn)狀和產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀 1.1 石墨烯產(chǎn)業(yè)研究概述 1.1.1 石墨烯技術(shù)的起源與發(fā)展 1.1.2 石墨烯的組成、結(jié)構(gòu)和性質(zhì) 1.1.3 石墨烯的制備方法 1.1.4 石墨烯的應(yīng)用 1.1.5 石墨烯的產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀 1.2 文獻檢索和數(shù)據(jù)處理 1.2.1 數(shù)據(jù)來源和數(shù)據(jù)范圍 1.2.2 數(shù)據(jù)檢索過程 1.2.3 檢索結(jié)果篩選 1.2.4 技術(shù)分解 1.2.5 術(shù)語約定 第二章 石墨烯技術(shù)整體專利申請態(tài)勢分析 023 2.1 全球石墨烯技術(shù)專利申請總體情況 2.1.1 專利總體分類及其申請趨勢 2.1.2 專利區(qū)域分布 2.2 在華石墨烯專利技術(shù)申請總體情況 2.2.1 專利申請總體態(tài)勢分析 2.2.2 國內(nèi)外申請人申請量占比 2.2.3 在華專利申請總體技術(shù)分布 2.2.4 專利申請技術(shù)分布 2.3 申請人總體情況 2.3.1 全球主要申請人構(gòu)成分析 2.3.2 在華主要申請人構(gòu)成分析 2.3.3 主要申請人申請領(lǐng)域比較 2.4 本章小結(jié) 第三章 石墨烯制備技術(shù)和應(yīng)用技術(shù)總體分析 045 3.1 石墨烯制備技術(shù)專利申請分析 3.1.1 制備技術(shù)分類與制備技術(shù)專利申請總體態(tài)勢 3.1.2 制備技術(shù)專利申請區(qū)域布局 3.1.3 制備技術(shù)重要專利申請 3.1.4 制備技術(shù)主要申請人分析 3.2 石墨烯應(yīng)用技術(shù)專利申請分析 3.2.1 應(yīng)用技術(shù)分類與應(yīng)用技術(shù)專利申請總體態(tài)勢 3.2.2 應(yīng)用技術(shù)專利申請區(qū)域布局 3.2.3 應(yīng)用技術(shù)重要專利申請 3.2.4 應(yīng)用技術(shù)主要申請人分析 3.3 本章小結(jié) 第四章 石墨烯制備重點技術(shù)專利分析 074 4.1 概述 4.2 化學(xué)氣相沉積法 4.2.1 專利申請分析 4.2.2 主要申請人分析 4.2.3 重點專利技術(shù)分析 4.2.4 技術(shù)發(fā)展路線 4.3 氧化還原法 4.3.1 專利申請分析 4.3.2 主要申請人分析 4.3.3 重要專利技術(shù)分析 4.3.4 技術(shù)發(fā)展路線 4.4 本章小結(jié) 第五章 石墨烯涂料專利技術(shù)分析 151 5.1 石墨烯涂料 5.1.1 全球?qū)＠�申請狀況分析 5.1.2 在華專利申請狀況分析 5.2 防腐涂料 5.2.1 概述 5.2.2 專利申請分析 5.2.3 技術(shù)分析 5.3 電性能涂料 5.3.1 概述 5.3.2 專利申請分析 5.3.3 導(dǎo)電涂料 5.3.4 導(dǎo)靜電涂料 5.3.5 電磁屏蔽涂料 5.4 熱性能涂料 5.4.1 概述 5.4.2 專利申請分析 5.4.3 技術(shù)分析 5.5 重點申請人分析 5.5.1 中國申請人 5.5.2 外國申請人 5.6 本章小結(jié) 第六章 石墨烯鋰離子電池專利技術(shù)分析 219 6.1 全球?qū)＠�技術(shù)發(fā)展趨勢分析 6.1.1 全球?qū)＠�申請趨�? 6.1.2 全球?qū)＠�申請來源及布局區(qū)域 6.2 在華專利技術(shù)發(fā)展趨勢分析 6.2.1 在華專利申請趨勢 6.2.2 在華專利申請來源及布局區(qū)域 6.3 重點申請人分析 6.3.1 全球主要申請人 6.3.2 在華主要申請人 6.4 重點專利分析 6.4.1 專利引用和同族規(guī)模分析 6.4.2 重點專利技術(shù)介紹 6.5 本章小結(jié) 第七章 石墨烯超級電容器專利技術(shù)分析 248 7.1 全球?qū)＠�技術(shù)發(fā)展趨勢分析 7.1.1 全球?qū)＠�申請趨�? 7.1.2 全球?qū)＠�申請來�? 7.1.3 全球主要申請人排名 7.1.4 全球?qū)＠�申請技術(shù)分布 7.2 在華專利分析 7.2.1 在華專利申請趨勢 7.2.2 在華專利申請來源 7.2.3 在華申請人類型 7.2.4 在華主要申請人排名 7.2.5 在華專利申請技術(shù)分布 7.2.6 在華專利申請類型和法律狀態(tài) 7.3 重點申請人分析 7.3.1 主要申請人進入、退出趨勢分析 7.3.2 海洋王照明科技股份有限公司 7.3.3 浙江大學(xué) 7.3.4 三星集團 7.4 重點專利分析 7.4.1 專利引用和同族專利規(guī)模分析 7.4.2 重點專利技術(shù)介紹 7.5 本章小結(jié) 第八章 石墨烯觸摸屏專利技術(shù)分析 287 8.1 全球?qū)＠�申請分�? 8.1.1 申請趨勢分析 8.1.2 技術(shù)來源國（地區(qū)/組織）分析 8.1.3 技術(shù)目標國（地區(qū)/組織）分析 8.1.4 全球申請人分析 8.2 在華專利申請分析 8.3 重要申請人分析 8.3.1 三星集團 8.3.2 歐菲光集團股份有限公司 8.3.3 京東方科技集團股份有限公司 8.4 重點專利分析 8.4.1 專利引用和同族專利規(guī)模分析 8.4.2 重點專利技術(shù)介紹 8.5 本章小結(jié) 第九章 展望和建議