為了應(yīng)對我國在集成電路領(lǐng)域,尤其是光刻技術(shù)方面嚴(yán)重落后于發(fā)達(dá)國家的局面,破解光刻制造設(shè)備、材料和光學(xué)鄰近效應(yīng)修正軟件幾乎完全依賴進(jìn)口的困境,作為從事光刻工藝研發(fā)近 20 年的資深研發(fā)人員,作
者肩負(fù)著協(xié)助光刻設(shè)備、材料和軟件等產(chǎn)業(yè)鏈共同研發(fā)和發(fā)展的責(zé)任,將近 20 年的學(xué)習(xí)成果和研發(fā)經(jīng)驗匯編
成書,建立聯(lián)系我國集成電路芯片的研發(fā)和制造,設(shè)備、材料和軟件的研發(fā),以及大專院校、科研院所的科學(xué)
技術(shù)研究、人才培養(yǎng)的一座橋梁。
本書以光刻工藝為主線,有機(jī)地將光刻設(shè)備、光刻材料、光刻成像的理論計算、光刻工藝中各種建模思想
和推導(dǎo)、芯片制造的技術(shù)發(fā)展要求以及對光刻工藝各項參數(shù)的要求緊密地聯(lián)系在一起,給讀者一個整體的圖
景。《衍射極限附近的光刻工藝》可供光刻技術(shù)領(lǐng)域科研院所的研究人員、大專院校的教師和學(xué)生、集成電路工廠的工程技術(shù)人員等
參考。