本書是微電子技術(shù)領(lǐng)域的基礎(chǔ)教程。全書涵蓋了量子力學、固體物理、半導體材料物理及半導體器件物理等內(nèi)容,分成三部分,共計15章。第一部分為半導體材料屬性,主要討論固體晶格結(jié)構(gòu)、量子力學、固體量子理論、平衡半導體、輸運現(xiàn)象、半導體中的非平衡過剩載流子;第二部分為半導體器件基礎(chǔ),主要討論pn結(jié)、pn結(jié)二極管、金屬半導體和半導體異質(zhì)結(jié)、金屬氧化物半導體場效應晶體管、雙極晶體管、結(jié)型場效應晶體管;第三部分為專用半導體器件,主要介紹光器件、半導體微波器件和功率器件等。書中既講述了半導體基礎(chǔ)知識,也分析討論了小尺寸器件物理問題,具有一定的深度和廣度。另外,全書各章難點之后均列有例題、自測題,每章末尾均安排有復習要點、重要術(shù)語解釋及知識點。全書各章末尾列有習題和參考文獻,書后附有部分習題答案。
美國新墨西哥大學電氣與計算機工程系教授,于新墨西哥大學獲博士學位后,成為Hanscom空軍基地固態(tài)科學實驗室電子工程師。1976年加入新墨西哥大學電氣與計算機工程系,從事半導體物理與器件課程和電路課程的教學工作。目前仍為該系的返聘教員。另著有Microelectronics Circuit Analysis and Design, Fourth Edition和An Introduction to Semiconductor Devices兩本教材。
美國新墨西哥大學電氣與計算機工程系教授,于新墨西哥大學獲博士學位后,成為Hanscom空軍基地固態(tài)科學實驗室電子工程師。1976年加入新墨西哥大學電氣與計算機工程系,從事半導體物理與器件課程和電路課程的教學工作。目前仍為該系的返聘教員。另著有Microelectronics Circuit Analysis and Design, Fourth Edition和An Introduction to Semiconductor Devices兩本教材。
緒論 半導體和集成電路
歷史
集成電路(IC)
制造
參考文獻
第一部分 半導體材料屬性
第1章 固體晶格結(jié)構(gòu)
1.0 概述
1.1 半導體材料
1.2 固體類型
1.3 空間晶格
1.4 金剛石結(jié)構(gòu)
1.5 原子價鍵
*1.6 固體中的缺陷和雜質(zhì)
*1.7 半導體材料的生長
1.8 小結(jié)
重要術(shù)語解釋
知識點
復習題
習題
參考文獻
第2章 量子力學初步
2.0 概述
2.1 量子力學的基本原理
2.2 薛定諤波動方程
2.3 薛定諤波動方程的應用
2.4 原子波動理論的延伸
2.5 小結(jié)
重要術(shù)語解釋
知識點
復習題
習題
參考文獻
第3章 固體量子理論初步
3.0 概述
3.1 允帶與禁帶
3.2 固體中電的傳導
3.3 三維擴展
3.4 狀態(tài)密度函數(shù)
3.5 統(tǒng)計力學
3.6 小結(jié)
重要術(shù)語解釋
知識點
復習題
習題
參考文獻
第4章 平衡半導體
4.0 概述
4.1 半導體中的載流子
4.2 摻雜原子與能級
4.3 非本征半導體
4.4 施主和受主的統(tǒng)計學分布
4.5 電中性狀態(tài)
4.6 費米能級的位置
4.7 小結(jié)
重要術(shù)語解釋
知識點
復習題
習題
參考文獻
第5章 載流子輸運現(xiàn)象
5.0 概述
5.1 載流子的漂移運動
5.2 載流子擴散
5.3 雜質(zhì)梯度分布
*5.4 霍爾效應
5.5 小結(jié)
重要術(shù)語解釋
知識點
復習題
習題
參考文獻
第6章 半導體中的非平衡過剩載流子
6.0 概述
6.1 載流子的產(chǎn)生與復合
6.2 過剩載流子的性質(zhì)
6.3 雙極輸運
6.4 準費米能級
*6.5 過剩載流子的壽命
*6.6 表面效應
6.7 小結(jié)
重要術(shù)語解釋
知識點
復習題
習題
參考文獻
第二部分 半導體器件基礎(chǔ)
第7章 pn結(jié)
7.0 概述
7.1 pn結(jié)的基本結(jié)構(gòu)
7.2 零偏
7.3 反偏
7.4 結(jié)擊穿
*7.5 非均勻摻雜pn結(jié)
7.6 小結(jié)
重要術(shù)語解釋
知識點
復習題
習題
參考文獻
第8章 pn結(jié)二極管
8.0 概述
8.1 pn結(jié)電流
8.2 產(chǎn)生復合電流和大注入
8.3 pn結(jié)的小信號模型
*8.4 電荷存儲與二極管瞬態(tài)
*8.5 隧道二極管
8.6 小結(jié)
重要術(shù)語解釋
知識點
復習題
習題
參考文獻
第9章 金屬半導體和半導體異質(zhì)結(jié)
9.0 概述
9.1 肖特基勢壘二極管
9.2 金屬半導體的歐姆接觸
9.3 異質(zhì)結(jié)
9.4 小結(jié)
重要術(shù)語解釋
知識點
復習題
習題
參考文獻
第10章 金屬氧化物半導體場效應晶體管基礎(chǔ)
10.0 概述
10.1 雙端MOS結(jié)構(gòu)
10.2 電容電壓特性
10.3 MOSFET基本工作原理
10.4 頻率限制特性
*10.5 CMOS技術(shù)
10.6 小結(jié)
重要術(shù)語解釋
知識點
復習題
習題
參考文獻
第11章 金屬氧化物半導體場效應晶體管: 概念的深入
11.0 概述
11.1 非理想效應
11.2 MOSFET按比例縮小理論
11.3 閾值電壓的修正
11.4 附加電學特性
*11.5 輻射和熱電子效應
11.6 小結(jié)
重要術(shù)語解釋
知識點
復習題
習題
參考文獻
第12章 雙極晶體管
12.0 概述
12.1 雙極晶體管的工作原理
12.2 少子的分布
12.3 低頻共基極電流增益
12.4 非理想效應
12.5 等效電路模型
12.6 頻率上限
12.7 大信號開關(guān)
*12.8 其他的雙極晶體管結(jié)構(gòu)
12.9 小結(jié)
重要術(shù)語解釋
知識點
復習題
習題
參考文獻
第13章 結(jié)型場效應晶體管
13.0 概述
13.1 JFET概念
13.2 器件的特性
*13.3 非理想因素
*13.4 等效電路和頻率限制
*13.5 高電子遷移率晶體管
13.6 小結(jié)
重要術(shù)語解釋
知識點
復習題