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半導(dǎo)體制造技術(shù)導(dǎo)論

半導(dǎo)體制造技術(shù)導(dǎo)論

定  價(jià):59 元

叢書(shū)名:國(guó)外電子與通信教材系列

        

  • 作者:(美),蕭宏 著 楊銀堂 ,段寶興 譯
  • 出版時(shí)間:2013/1/1
  • ISBN:9787121188503
  • 出 版 社:電子工業(yè)出版社
  • 中圖法分類(lèi):TN305 
  • 頁(yè)碼:479
  • 紙張:膠版紙
  • 版次:2
  • 開(kāi)本:16開(kāi)
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讀者對(duì)象:可作為高等院校微電子技術(shù)專(zhuān)業(yè)的教材, 也可作為從事半導(dǎo)體制造與研究人員的參考書(shū)及公司培訓(xùn)員工的標(biāo)準(zhǔn)教材

  《半導(dǎo)體制造技術(shù)導(dǎo)論(第2版)》共包括15章,第1章概述了半導(dǎo)體制造工藝;第2章介紹了基本的半導(dǎo)體工藝技術(shù);第3章介紹了半導(dǎo)體器件、集成電路芯片,以及早期的制造工藝技術(shù);第4章描述了晶體結(jié)構(gòu)、單晶硅晶圓生長(zhǎng),以及硅外延技術(shù);第5章討論了半導(dǎo)體工藝中的加熱過(guò)程;第6章詳細(xì)介紹了光學(xué)光刻工藝;第7章討論了半導(dǎo)體制造過(guò)程中使用的等離子體理論;第8章討論了離子注入工藝;第9章詳細(xì)介紹了刻蝕工藝;第10章介紹了基本的化學(xué)氣相沉積(CVD)和電介質(zhì)薄膜沉積工藝,以及多孔低k電介質(zhì)沉積、氣隙的應(yīng)用、原子層沉積(ALD)工藝過(guò)程;第11章介紹了金屬化工藝;第12章討論了化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)工藝;第13章介紹了工藝整合;第14章介紹了先進(jìn)的CMOS、DRAM和NAND閃存工藝流程;第15章總結(jié)了本書(shū)和半導(dǎo)體工業(yè)未來(lái)的發(fā)展。
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