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專利挖掘（第2版）
發(fā)布者：網(wǎng)上館配會(huì) 發(fā)布時(shí)間：2020/8/12
本書第1版在2016年首次出版, 及時(shí)滿足了讀者的需求。該書出版后, 歷經(jīng)多次重印, 目前已發(fā)行15000冊，在社會(huì)上引起較大反響, 很多熱心讀者向編寫團(tuán)隊(duì)和出版社編輯反饋閱讀心得和良好收益, 同時(shí)還有很多讀者和業(yè)內(nèi)專家提出了很多很好的意見和建議。本書第2版在《專利挖掘》原版書的基礎(chǔ)上，結(jié)合這幾年專利咨詢行業(yè)廣大同仁和高校師生對專利實(shí)務(wù)更高層次的知識(shí)需求，增加了各行業(yè)最新的專利挖掘?qū)嶋H案例，并對原版中存在的問題進(jìn)行了修改和完善。 本書第2版的框架更為合理, 知識(shí)點(diǎn)更為全面, 案例更為豐富且實(shí)操性更強(qiáng), 適合企業(yè)研發(fā)工程師、專利工程師、專利代理師以及相關(guān)專業(yè)的師生作為指導(dǎo)性讀物和業(yè)務(wù)參考工具書。
1.以國內(nèi)企業(yè)實(shí)際需求為視角，突出實(shí)效性；
2.以國內(nèi)外企業(yè)實(shí)際的案例為支撐，突出實(shí)踐性；
3.全面介紹國內(nèi)外典型企業(yè)進(jìn)行專利挖掘的實(shí)際實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)，具備典型性；
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