對于任何光學(xué)系統(tǒng)來說，光學(xué)薄膜，即由一定數(shù)量的單獨膜層所構(gòu)成的多層膜堆棧，都是實現(xiàn)光學(xué)表面特性裁剪所必不可少的組成部分。而光學(xué)薄膜的性能則取決于各層薄膜的材料以及定義膜系排布的幾何參數(shù)(如膜厚)這二者之間是否取得良好的平衡關(guān)系。在所有面向光學(xué)薄膜性能的科學(xué)書籍中，都主要關(guān)注于如何優(yōu)化薄膜的幾何參數(shù)，特別是膜層的數(shù)量和每

對于任何光學(xué)系統(tǒng)來說，光學(xué)薄膜，即由一定數(shù)量的單獨膜層所構(gòu)成的多層膜堆棧，都是實現(xiàn)光學(xué)表面特性裁剪所必不可少的組成部分。而光學(xué)薄膜的性能則取決于各層薄膜的材料以及定義膜系排布的幾何參數(shù)(如膜厚)這二者之間是否取得良好的平衡關(guān)系。在所有面向光學(xué)薄膜性能的科學(xué)書籍中，都主要關(guān)注于如何優(yōu)化薄膜的幾何參數(shù)，特別是膜層的數(shù)量和每

涂布與復(fù)合技術(shù)，廣泛應(yīng)用在人們的生產(chǎn)生活中，從簡單的墻壁粉刷，到精細(xì)的電子產(chǎn)品，乃至食品包裝材料和紙張加工，都離不開涂布復(fù)合技術(shù)�！鸨緯鴥�(nèi)容豐富實用，專業(yè)性強(qiáng)，國內(nèi)罕有的涂布復(fù)合技術(shù)專著；○聯(lián)合多家優(yōu)秀企業(yè)一線工程師，科研機(jī)構(gòu)行業(yè)專家，管理和教學(xué)一線教師編著；○第一版多次重印，得到國內(nèi)企業(yè)及行業(yè)個人讀者的廣泛認(rèn)可；○第

《薄膜技術(shù)與應(yīng)用》為研究生高水平課程教材。全書主要內(nèi)容包括真空技術(shù)基礎(chǔ)、真空蒸發(fā)鍍膜、分子束外延生長、濺射鍍膜、激光脈沖沉積、離子鍍和離子束沉積、化學(xué)氣相沉積、原子層沉積（ALD）鍍膜、溶液鍍膜法和自組裝膜等。《薄膜技術(shù)與應(yīng)用》既可作為研究生的相關(guān)課程教材，也可供其他人員學(xué)習(xí)參考。

本書重點介紹了作者課題組近幾年來在國家自然科學(xué)基金、國防預(yù)研基金、重點實驗室基金等一系列基礎(chǔ)研究項目的支持下，在物理氣相沉積硬質(zhì)薄膜強(qiáng)韌化方法、理論、表征及強(qiáng)韌化薄膜應(yīng)用領(lǐng)域的研究成果。主要論述了如何制備和表征具有強(qiáng)、韌性能的薄膜，包括薄膜的制備方法，薄膜強(qiáng)化技術(shù)，薄膜韌化技術(shù)，薄膜的強(qiáng)韌性能表征，薄膜內(nèi)應(yīng)力，強(qiáng)韌化薄

本書以實例的形式，介紹了用磁控濺射法制備氧化鋅（ZnO）薄膜、氮化鋁（AlN）薄膜和ZnO/AlN復(fù)合膜的詳細(xì)工藝和性能表征。全書共分8章，第1章主要介紹ZnO的晶體結(jié)構(gòu)、能帶結(jié)構(gòu)、性能與應(yīng)用；第2章主要介紹AlN的晶體結(jié)構(gòu)、能帶結(jié)構(gòu)、性能與應(yīng)用；第3章主要介紹ZnO和AlN薄膜的常用制備方法及性能表征手段；第4~6章

《薄膜技術(shù)與薄膜材料》是作者根據(jù)多年從事材料表面薄膜制備技術(shù)的科研和教學(xué)經(jīng)驗編寫而成，全書共分4章，分別闡述了材料表面防護(hù)裝飾膜層的物理氣相沉積技術(shù)（包括真空蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍鍍膜），化學(xué)氣相沉積技術(shù)（包括簡單的CVD相關(guān)理論、設(shè)備裝置、CVD種類等），硬膜及超硬膜的制備技術(shù)（金剛石膜、類金剛石膜、立方氮化硼膜

《材料表征原版系列叢書:有機(jī)薄膜的表征(英文)》主要內(nèi)容包括：PREPARATIONANDMATERIALSLANGMUIR—BLODGETT FILMS、L—BFilmsofLong—ChainCompounds、CyclicCompoundsand Chromophores、PolymersandProteins

《膜技術(shù)新進(jìn)展與工程應(yīng)用》介紹了膜技術(shù)在水與廢水處理、各種流體分離中的應(yīng)用現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢，尤其是微濾、超濾、納濾、反滲透、正滲透、膜蒸餾、滲透汽化、氣體分離等在水脫鹽與凈化、傳統(tǒng)工藝改造、清潔生產(chǎn)、濃縮與分離、工業(yè)廢水處理、廢水循環(huán)回用以及污水資源化等方面的應(yīng)用進(jìn)展和案例，以及新膜制備與應(yīng)用，表明了膜技術(shù)已有重大作用和

本書是本著突出近代真空鍍膜技術(shù)進(jìn)步，注重系統(tǒng)性、強(qiáng)調(diào)實用性而編著的。全書共11章，內(nèi)容包涵了真空鍍膜中物理基礎(chǔ)，各種蒸發(fā)源與濺射靶的設(shè)計、特點、使用要求，各種真空鍍膜方法以及薄膜的測量與監(jiān)控，真空鍍膜工藝對環(huán)境的要求等。本書具有權(quán)威性、實用性和通用性。本書可作為從事真空鍍膜技術(shù)的技術(shù)人員、真空專業(yè)的本科生、研究生教材使