本書介紹了光學(xué)元件磁流變拋光理論與關(guān)鍵工藝，尤其重點介紹了離軸非球面光學(xué)元件磁流變拋光關(guān)鍵技術(shù)。第一章～第六章側(cè)重介紹磁流變拋光的理論和工藝研究，主要針對高精度光學(xué)鏡面磁流變拋光過程中的去除函數(shù)多參數(shù)模型、表面與亞表面質(zhì)量控制、駐留時間高精度求解與實現(xiàn)、修形工藝優(yōu)化方法等關(guān)鍵問題進行深入研究和實驗驗證；第七章～第十二章以離軸非球面光學(xué)零件的高精高效制造為需求牽引，針對離軸非球面磁流變拋光過程中的關(guān)鍵理論和工藝問題開展研究，旨在實現(xiàn)面形誤差和特征量參數(shù)雙重約束條件下的離軸非球面光學(xué)零件的磁流變拋光，形成基于磁流變拋光技術(shù)的加工工藝路線，從而進一步提高我國離軸非球面光學(xué)零件的制造水平。