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中子散射:理論與應(yīng)用
中子散射技術(shù)是研究物質(zhì)微觀結(jié)構(gòu)和動(dòng)態(tài)的重要手段。本書從基本物理原理出發(fā),系統(tǒng)闡述了中子散射的相關(guān)理論。在理論的基礎(chǔ)上,進(jìn)一步詳解了中子散射方法在諸多體系中的應(yīng)用,包括固體、液體、軟物質(zhì)、高分子、界面與薄膜,以及磁性材料。同時(shí)還介紹相關(guān)譜儀的原理,如衍射譜儀、小角散射譜儀、三軸譜儀、飛行時(shí)間譜儀、自旋回波譜儀、反射譜儀等。通過本書,讀者可較為全面地理解中子散射的理論和應(yīng)用,并快速進(jìn)入相關(guān)科研的前沿。
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