《固態(tài)表面，界面與薄膜》這本書從實(shí)驗(yàn)和理論兩方面探討了表面與界面的物理問題。在早期的版本中，表面和薄膜的制備，原子結(jié)構(gòu)、形貌，振動(dòng)態(tài)與電子輸運(yùn)性質(zhì)，以及吸附的基礎(chǔ)知識(shí)均被論及。表面和界面的電子態(tài)，半導(dǎo)體空間電荷層和異質(zhì)結(jié)等內(nèi)容由于在現(xiàn)代信息技術(shù)和納米結(jié)構(gòu)研究中的重要性也被重點(diǎn)論述。本書還增加了特殊的章節(jié)重點(diǎn)描述界面和薄膜的集體耦合行為，如超導(dǎo)電性和磁學(xué)，而磁學(xué)的討論中又包括了巨磁阻和自旋矩傳輸機(jī)理等重要內(nèi)容。這兩部分內(nèi)容在信息技術(shù)中均具有重要價(jià)值。在第六版中，自旋-軌道耦合對(duì)于表面態(tài)的影響首次被討論，對(duì)近來研究較熱的、對(duì)自旋電子學(xué)具有重要價(jià)值的拓?fù)浣^緣體材料也被討論。因此，新版本還專門論述了滿足嚴(yán)格定義的自旋取向的新型拓?fù)浔Ｗo(hù)表面態(tài)，尤其是，在早期版本中被忽略的一些重要的、成熟的實(shí)驗(yàn)技術(shù)，如X射線衍射(XRD)，各向異性反射光譜(RAS)等在此新版中也得到補(bǔ)充。本書除了探討真正意義上的固態(tài)表面與界面的制備技術(shù)外，還重點(diǎn)探討了界面的結(jié)構(gòu)、振動(dòng)態(tài)及電學(xué)性質(zhì)的基本物理模型，也涉及到了表面吸附與薄膜層狀生長的基本問題。由于現(xiàn)代微電子學(xué)的重要性，該書還特別強(qiáng)調(diào)了半導(dǎo)體界面和異質(zhì)結(jié)的電學(xué)性質(zhì)。在實(shí)驗(yàn)方面，該書另一大特點(diǎn)是通過一系列“附錄”的形式講述了超高真空、電子光學(xué)、表面譜學(xué)和界面電學(xué)等表征技術(shù)方面的基礎(chǔ)知識(shí)。為讀者提供了快速、全面了解現(xiàn)代各種表面、界面表征技術(shù)的重要信息。